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來(lái)源：EETOP 據(jù)塔斯社報(bào)道，俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）指出，該設(shè)備可確保生產(chǎn) 350納米的芯片。 什帕克告訴媒體：“我們組裝并制造了第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對(duì)其進(jìn)行測(cè)試。” 在全球范圍內(nèi)，這種復(fù)雜程度的設(shè)備由幾家主要公司組裝，其中最大的是荷蘭的 ASML 公司以及佳能和尼康。 目前，臺(tái)積電和三星利用ASML的EUV光刻技術(shù)，已經(jīng)能夠生產(chǎn)出精細(xì)至3納米甚至2納米的芯片。盡管350納米的芯片技術(shù)相較之下顯得落后，但它在汽車(chē)、能源和電信等諸多行業(yè)中仍有著應(yīng)用價(jià)值。對(duì)于受到美西方嚴(yán)厲制裁的俄羅斯半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，這一進(jìn)展無(wú)疑是一則喜訊。這意味著，俄羅斯在自主發(fā)展半導(dǎo)體技術(shù)的道路上取得了突破，有望減少對(duì)外部技術(shù)的依賴，提升國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)的自主性和競(jìng)爭(zhēng)力。 |
