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來源：EXPreview 近日在美國加利福利亞州圣何塞舉行的SPIE先進光刻技術會議上，來自光刻生態系統不同部門的專家討論了Low-NA和High-NA EUV光刻技術的前景，觀點從高度樂觀到謹慎，特別是High-NA EUV方面，三星表達了擔憂。 
三星負責存儲器生產的研究員Young Seog Kang表示，作為一名用戶，更關心的是總成本問題，目前Low-NA已經投入使用，芯片制造商可能更愿意使用Low-NA EUV以雙重曝光或采用先進封裝技術作為補充，這可能是更經濟可行的替代方案，而不是直接使用High-NA EUV來完成。Young Seog Kang認為，邏輯芯片的布局更為復雜，新技術可能在更長時間內適用，而存儲器在擴展新技術時，性能和成本方面都存在潛在的挑戰。 相比于三星，英特爾對High-NA EUV的前景更為樂觀一些。按照英特爾的新計劃，將會在Intel 14A工藝引入High-NA EUV，英特爾掩模業務總經理Frank Abboud稱，過往在DUV發揮重要作用的相移掩模有望引入到EUV。ASML系統工程總監Jan van Schoot概述了幾種提高光刻分辨率和擴展EUV光刻應用的方法，表示正在研發新的光源和其他改進k1的策略，現在已經有了一些新想法。 JSR（光刻膠供應商）的總裁Mark Slezak認為，EUV技術可以持續20年，DUV技術的持續時間也比預期要長得多。 |
