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ASML計(jì)劃2019年出貨30臺EUV光刻機(jī):新型號3400C將亮相

發(fā)布時間:2019-1-30 10:10    發(fā)布者:小編
關(guān)鍵詞: ASML , EUV , 光刻機(jī) , 3400C
2017年出貨11臺,2018年出貨18臺,ASML(阿斯麥)上周表示,計(jì)劃在2019年出貨30臺EUV光刻機(jī)。



目前,ASML占有全球光刻機(jī)市場70%的份額,遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先尼康。更重要的是,僅荷蘭ASML有能力制造和出貨EUV光刻機(jī),尼康的最高技術(shù)水平還停留在ArF氟化氬沉浸式光刻機(jī)。

與此同時,ASML將在2019年推出產(chǎn)能更高的新型號Twinscan NXE: 3400C,取代現(xiàn)款售價1.2億美元(約合8億)的Twinscan NXE: 3400B。3400C的每小時晶圓雕刻能力從155片提升至170片,換裝Cymer公司的340W光源。

ASML計(jì)劃2019年出貨30臺EUV光刻機(jī):新型號3400C將亮相

資料顯示,截至去年7月,全球各公司、研究機(jī)構(gòu)等總共僅安裝了31臺EUV光刻機(jī)。不過,遺憾的是,迄今,大規(guī)模使用EUV(極紫外光刻)技術(shù)的先進(jìn)工藝仍未量產(chǎn),三星7nm LPP理論上進(jìn)度最快,但當(dāng)下僅限于在S3工廠小規(guī)模投產(chǎn),年底位于韓國華城、投資6萬億韓元(約合362億元)的工廠竣工后,將是三星7nm EUV主力廠。

另外,臺積電的第二代7nm也將在非關(guān)鍵步驟上采用EUV技術(shù),Intel、SK海力士也都對EUV光刻機(jī)有強(qiáng)烈需求。
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