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聚焦7nm及以上先進(jìn)工藝 北大無錫研究院獲省科技重大專項支持

發(fā)布時間:2025-11-13 15:28    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 7nm , EDA
江蘇省科技廳近日正式印發(fā)2025年度省科技重大專項立項文件,無錫北京大學(xué)電子設(shè)計自動化研究院(以下簡稱“北大EDA研究院”)憑借“支持7nm及以上超大規(guī)模集成電路布線方法及EDA軟件研究”項目脫穎而出,成為無錫高新區(qū)首個獲此殊榮的單位。這一突破不僅標(biāo)志著江蘇省在集成電路設(shè)計自動化領(lǐng)域的技術(shù)攻關(guān)邁入新階段,更為我國高端芯片自主化進(jìn)程注入關(guān)鍵動力。

在7nm及以下先進(jìn)制程芯片設(shè)計中,布線環(huán)節(jié)面臨三大核心挑戰(zhàn):設(shè)計規(guī)則復(fù)雜度指數(shù)級增長、光刻工藝限制導(dǎo)致版圖拆分難度陡增、互連線延遲占比躍升至70%以上。傳統(tǒng)EDA工具因無法適配極細(xì)線寬、多層互連等規(guī)則,導(dǎo)致時序收斂失敗率高達(dá)30%,成為制約高端芯片研發(fā)的“卡脖子”環(huán)節(jié)。國外巨頭Synopsys、Cadence等長期壟斷先進(jìn)制程工具鏈,我國芯片設(shè)計企業(yè)長期面臨“工具斷供”風(fēng)險。

北大EDA研究院此次立項項目聚焦三大技術(shù)維度:構(gòu)建覆蓋全局到詳細(xì)布線的全流程框架,深度適配7nm+制程的2000余項設(shè)計規(guī)則;開發(fā)雙重曝光工藝驅(qū)動的版圖拆分算法,將光刻掩膜板生成效率提升40%;創(chuàng)新時序驅(qū)動布線優(yōu)化技術(shù),使關(guān)鍵路徑延遲(WNS)控制精度與國際主流工具差距縮小至8%。項目團(tuán)隊通過CPU/GPU異構(gòu)并行加速技術(shù),實現(xiàn)百萬門級芯片布線速度較單線程提升12倍,同時確保DRC(設(shè)計規(guī)則檢查)違例率低于國際工具的1.5倍。

作為北京大學(xué)與無錫市政府、高新區(qū)管委會共建的民辦非營利機構(gòu),北大EDA研究院以北京大學(xué)集成電路學(xué)院為核心團(tuán)隊,匯聚了包括“CCF集成電路Early Career Award”獲得者林亦波博士在內(nèi)的30余位海內(nèi)外頂尖人才。研究院自2022年落地?zé)o錫以來,已構(gòu)建起覆蓋EDA核心算法、工具開發(fā)、產(chǎn)業(yè)應(yīng)用的完整創(chuàng)新鏈,其4項研究成果入選國際設(shè)計自動化會議(DAC),與華大九天、概倫電子等企業(yè)共建的聯(lián)合實驗室累計孵化3家科技型企業(yè)。

此次立項項目特別強調(diào)產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新:通過與中芯國際、長江存儲等企業(yè)建立聯(lián)合測試機制,確保軟件工具鏈在真實生產(chǎn)環(huán)境中的適配性;與上海合見工業(yè)軟件、后摩智能等單位共建的EDA公共服務(wù)平臺,已為長三角地區(qū)50余家設(shè)計企業(yè)提供技術(shù)支撐。項目實施周期內(nèi)預(yù)計將形成20項發(fā)明專利、3項行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),并推動我國7nm+芯片設(shè)計周期縮短30%。
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