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4月3日，ASML公司宣布了一項重要戰略決策：計劃在日本大幅擴增其先進的極紫外光（EUV）芯片工具的員工人數，擴增規模將達到現有員工人數的五倍。這一舉措旨在滿足日本市場對EUV技術的日益增長的需求，并進一步強化ASML在全球半導體產業鏈中的領先地位。 ASML作為全球唯一的EUV光刻機技術提供商，其EUV設備是量產5至7納米以下最尖端芯片的必備工具。隨著全球半導體行業的快速發展，特別是日本市場對先進芯片制造技術的需求不斷增加，ASML決定在日本加大投入，以更好地服務當地客戶并推動EUV技術的廣泛應用。 根據ASML的公告，此次員工擴增計劃將主要面向日本的EUV光刻機維護、技術支持以及客戶服務等領域。通過增加專業人員數量，ASML將能夠更高效地響應客戶需求，提供更快速、更專業的技術支持和服務，確保EUV光刻機在日本市場的穩定運行和高效產出。 ASML表示，日本作為全球半導體產業的重要一環，其市場需求和技術發展對全球半導體產業鏈具有重要影響。通過在日本擴增EUV芯片工具的員工人數，ASML將能夠更深入地融入當地市場，與日本客戶建立更緊密的合作關系，共同推動半導體技術的創新與發展。 此外，ASML還透露，此次員工擴增計劃將與其在日本的技術支持中心建設同步進行。目前，ASML已經在日本北海道等地設立了技術支持中心，為當地客戶提供及時、專業的技術支持和服務。未來，隨著員工數量的增加，這些技術支持中心將進一步提升服務能力和水平，為日本客戶提供更加全面、高效的EUV光刻機解決方案。 ASML的此次戰略決策得到了業界的廣泛關注和認可。分析人士認為，通過在日本擴增EUV芯片工具的員工人數，ASML將能夠進一步鞏固其在全球半導體產業鏈中的領先地位，并為全球半導體行業的創新發展注入新的動力。 |
