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2nm以下節(jié)點裝備競賽打響,臺積電魏哲家密訪ASML總部

發(fā)布時間:2024-5-28 16:33    發(fā)布者:eechina
關鍵詞: 2nm , 臺積電 , 魏哲家 , ASML
來源:IT之家

根據韓媒 Business Korea 報道,臺積電首席執(zhí)行官魏哲家撇開了 5 月 23 日自家舉辦的“臺積電 2024 技術研討會”,前往荷蘭訪問位于 Eindhoven 的 ASML 總部,以及訪問德國 Ditzingen 的工業(yè)激光專業(yè)公司 TRUMPF。

ASML 首席執(zhí)行官 Christophe Fouquet 和 TRUMPF 首席執(zhí)行官 Nicola Leibinger-Kammüller 通過社交媒體透露了魏總秘密出訪的行蹤。



首席執(zhí)行官 Fuke 表示:“我們向魏總介紹了我們的最新技術和新產品,包括高數值孔徑(High NA)EUV 設備將如何實現未來的半導體微處理技術”。

IT之家 5 月 14 日報道,臺積電張曉強博士于 5 月 14 日出席在阿姆斯特丹舉辦的技術研討會,他直言:“ASML 的 High-NA EUV 太貴了,我非常喜歡 High-NA EUV 的能力,但不喜歡它的價格”。

臺積電正考慮為劃于 2026 年下半年量產的 1.6 納米產品 A16 之后的工藝引入 High NA EUV 設備,同時在此之前使用現有 Low NA EUV 設備。
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