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與ASML達成歷史性協議 三星將在2nm芯片制造取得優勢

發布時間:2023-12-19 09:33    發布者:eechina
關鍵詞: ASML , 三星 , 2nm
來源:集微網

2023年12月初,三星電子社長李在镕隨韓國總統尹錫悅前往荷蘭,與光刻機制造商ASML達成重要的商業協議。三星和ASML同意共同投資1萬億韓元(約合7.62億美元)在韓國建設一座研究工廠,以開發使用EUV光刻機的尖端半導體制造技術。三星電子總裁兼CEO、設備解決方案部負責人Kyung Kye-hyun博士強調,公司的最新協議將幫助其獲得下一代高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機。

目前ASML是全球唯一的EUV光刻機制造商,該產品用于制造7nm及以下制程芯片,然而這類設備年產量僅為40~50臺,供不應求。李在镕此次訪韓,目的也是當面協商請求ASML優先供貨。

Kyung表示,三星已經獲得了High-NA EUV光刻機的優先供貨權,相信可以利用此次機會使得三星在DRAM存儲芯片和邏輯芯片生產中優化High-NA技術的使用。在即將于韓國京畿道東灘建立的芯片研究設施中,來自ASML和三星的工程師將合作,改進EUV芯片制造技術。三星與ASML的交易重點不是單純將2nm芯片制造設備引入韓國,而是與這家公司建立合作伙伴關系,以便更好地利用下一代設備。

消息稱ASML計劃在2024年推出10臺2nm芯片制造設備,而英特爾已經預訂了其中的6臺。最新型號的High-NA EUV光刻機可以將聚光能力從0.33提高至0.55,能夠獲得更精細的曝光圖案,用于2nm制程節點。未來幾年,ASML希望將這種最新設備的產能提高至每年20臺。

在成功獲得ASML最新光刻機之后,三星計劃于2025年底開始生產2nm芯片,然而有第三方分析稱這一計劃可能出現延遲,這取決于市場狀況和生產良率等。

高通幾年前將驍龍888、驍龍8 Gen1芯片獨家委托給三星代工,使用5nm、4nm制程工藝,但由于三星工藝問題,這代芯片出現了嚴重的發熱問題,致使高通不得不緊急轉而尋求臺積電進行代工。近日有消息稱高通第五代驍龍8有望重新回到三星進行代工制造,使用2nm工藝。不過,臺積電、三星、英特爾都對2nm制程野心勃勃,積極向客戶展示最新技術,試圖爭奪訂單。
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