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來源：快科技 11月4日消息，俄羅斯已經公開表示，自己正在研發光刻機，最快會在2024年有成果。 按照俄羅斯工業和貿易部副部長Vasily Shpak的說法，2024年將開始生產350nm光刻機，2026年啟動用于生產130nm制程芯片的光刻機設備。 對于這樣的行為，俄羅斯表示，目前全球只有兩家公司生產此類設備——日本尼康和荷蘭ASML，而他們要改變這個格局。 現在俄羅斯已經掌握了使用外國制造設備的65nm技術，但無法生產光刻機。由于外國公司被禁止向俄羅斯出口現代光刻設備，該國正在匆忙開發自己的生產設備。 在這之前，圣彼得堡理工大學的研究人員開發出了一種“國產光刻復合體”，可用于蝕刻生產無掩模芯片，這將使“解決俄羅斯在微電子領域的技術主權問題”成為可能。 據介紹，其中一種工具的成本為500萬盧布（當前約36.3萬元人民幣），另一種工具的成本未知。 據開發人員稱，傳統光刻技術需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。 該裝置由專業軟件控制，可實現完全自動化，隨后的另外一臺設備可直接用于形成納米結構，但也可以制作硅膜，例如用于艦載超壓傳感器。 此外，俄羅斯大諾夫哥羅德策略發展機構發豪語，宣稱俄羅斯科學院旗下應用物理研究所將會跌破所有人眼鏡，在2028年開發出可以生產7納米芯片的光刻機，還可擊敗ASML同類產品。 |
