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三星3nm工廠即將動工首發GAA工藝功耗直降50%

發布時間：2022-3-11 17:26 發布者：eechina

關鍵詞： 3nm , 晶圓廠 , 三星

來源: 財聯社

據韓國媒體報道，三星已經準備在韓國平澤市的P3工廠開工建設3nm晶圓廠了，6、7月份動工，并及時導入設備。根據三星的說法，與7nm制造工藝相比，3nm GAA技術的邏輯面積效率提高了45%以上，功耗降低了50%，性能提高了約35%，紙面參數上來說卻是要優于臺積電3nm FinFET工藝。

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