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Power Integrations發(fā)布新技術(shù)白皮書,深度解讀適用于下一代800VDC AI 數(shù)據(jù)中心的1250V和1700V PowiGaN技術(shù)

發(fā)布時間:2025-10-14 17:38    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: GaN , PowiGaN , 氮化鎵
該公司正在與英偉達(dá)(NVIDIA)合作開發(fā)800VDC供電架構(gòu);新發(fā)布的白皮書剖析了1250V PowiGaN技術(shù)相較于650V GaN和1200V SiC的優(yōu)勢

Power Integrations(納斯達(dá)克股票代號:POWI)今日發(fā)布一份新的技術(shù)白皮書,詳解其PowiGaN氮化鎵技術(shù)能為下一代AI數(shù)據(jù)中心帶來的顯著優(yōu)勢。這份白皮書發(fā)布于圣何塞舉行的2025年開放計(jì)算項(xiàng)目全球峰會(2025 OCP Global Summit),其中介紹了1250V和1700V PowiGaN技術(shù)適用于800VDC供電架構(gòu)的功能特性。峰會上,NVIDIA還就800VDC架構(gòu)的最新進(jìn)展進(jìn)行了說明。Power Integrations正與NVIDIA合作,加速推動向800VDC供電和兆瓦級機(jī)架的轉(zhuǎn)型。



新白皮書闡釋了Power Integrations業(yè)界首款1250V PowiGaN HEMT的性能優(yōu)勢,展示了其經(jīng)過實(shí)際應(yīng)用驗(yàn)證的可靠性以及滿足800VDC架構(gòu)的功率密度和效率要求(>98%)的能力。此外,該白皮書還表明,與堆疊式650V GaN FET和同等的1200V SiC器件相比,單個1250V PowiGaN開關(guān)可提供更高的功率密度和效率。

該白皮書還重點(diǎn)介紹了Power Integrations的InnoMux 2-EP IC,它是適用于800VDC數(shù)據(jù)中心輔助電源的獨(dú)特解決方案。InnoMux-2器件內(nèi)集成的1700V PowiGaN開關(guān)支持1000VDC輸入電壓,其SR ZVS工作模式在液冷無風(fēng)扇的800VDC架構(gòu)中可為12V系統(tǒng)提供超過90.3%的效率。

Power Integrations產(chǎn)品開發(fā)副總裁Roland Saint-Pierre表示:“隨著人工智能對電力需求的不斷增長,采用800VDC輸入方案可簡化機(jī)架設(shè)計(jì)、提高空間利用效率并減少銅材用量。隨著機(jī)架電力需求的不斷攀升,我們認(rèn)為1250V和1700V PowiGaN器件是主電源和輔助電源的理想選擇,它們能夠滿足800VDC數(shù)據(jù)中心所需的效率、可靠性和功率密度要求。”

Power Integrations作為已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)1250V和1700V高壓GaN開關(guān)的重點(diǎn)供應(yīng)商,于2018年推出首款GaN IC,目前已有超過1.75億個GaN開關(guān)應(yīng)用于各類終端產(chǎn)品,涵蓋快速充電器、數(shù)據(jù)中心及電動汽車等領(lǐng)域。

如需詳細(xì)了解有關(guān)Power Integrations面向AI數(shù)據(jù)中心的PowiGaN技術(shù),并獲取題為《1250V/1700V PowiGaN HEMT在800VDC AI數(shù)據(jù)中心架構(gòu)中的應(yīng)用》的白皮書,請?jiān)L問https://www.power.com/ai-data-center。要閱讀NVIDIA關(guān)于800VDC架構(gòu)的技術(shù)博客,請單擊此處

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