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在我國集成電路產業蓬勃發展的背景下，東方晶源科技股份有限公司（以下簡稱“東方晶源”）今日宣布，其自主研發的新一代電子光學系統（Electron Optical System，簡稱EOS）已成功搭載到旗下多款高端電子束量測檢測設備中，實現了國產EOS在高端量測檢測領域的突破性應用。這一里程碑式的成就，不僅標志著東方晶源在電子束量測檢測領域的技術實力達到了國際領先水平，更為我國集成電路產業的發展和進步奠定了堅實基礎。 作為電子束量測檢測領域的先行者和領跑者，東方晶源始終堅持自主研發，不斷深化研發投入，加速技術創新步伐。此次推出的新一代EOS，是東方晶源技術團隊多年努力的結晶，其成功搭載到電子束缺陷復檢設備（DR-SEM）、關鍵尺寸量測設備（CD-SEM）和電子束缺陷檢測設備（EBI）中，標志著國產EOS在高端量測檢測領域的應用邁出了堅實的一步。 DR-SEM是一款基于超高分辨率電子束成像技術的設備，主要用于對芯片制造過程中的缺陷進行復檢分析，包括形貌分析和成分分析等。東方晶源新一代DR-SEM EOS采用了適配自研的多通道高速探測器，支持多信號類型分析檢測，兼容EDX成分分析功能，能夠覆蓋廣泛的缺陷復檢應用場景。同時，搭配高精度定位技術，新一代DR-SEM EOS的檢測精度和速度均達到了業界主流水準，為芯片制造過程中的質量控制提供了有力保障。 CD-SEM作為產線量測的基準設備，對EOS的核心技術需求在于高分辨、高產能和高穩定性。東方晶源新一代CD-SEM EOS通過采用球色差優化的物鏡、像差補償技術和自動校正技術等新方案，實現了高成像分辨率和高量測精度，達到了業界一流水平。同時，自研探測器針對頻響和信噪比進行了優化，支持快速圖像采集，結合高速AFC技術，可以在不損失精度的情況下大幅提升量測產能。這一技術方案確保了CD-SEM在產線量測中的穩定性和一致性，進一步提升了生產效率。 針對國內領先的邏輯與存儲客戶產線檢測需求，EBI EOS在保證檢測精度的前提下，重點提升了檢測速度。東方晶源最新研發的EBI EOS通過四大技術手段在檢測精度和速度上進行了顯著的優化與提升，滿足了客戶對高效、精準檢測的需求。 隨著半導體工藝水平的飛速發展，電子束在線量測檢測的重要性日益凸顯。東方晶源在高速成像和多電子束技術方面取得了重要突破，實現了相關技術的原理驗證，為提升設備產能和滿足市場需求提供了有力支持。 |
