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聯電積極投入GaN制程開發

發布時間:2020-5-27 10:34    發布者:eechina
關鍵詞: 聯電 , 氮化鎵 , GaN
晶圓代工廠近來積極布局第三代半導體材料氮化鎵(GaN),除龍頭廠臺積電已提供6英寸GaN-on-Si(硅基氮化鎵)晶圓代工服務外,世界先進GaN制程也預計年底送樣,聯電同樣積極投入GaN制程開發,攜手子公司聯穎布局高效能電源功率元件市場。

聯電表示,GaN制程開發是現有研發計劃中的重點項目之一,目前與轉投資公司砷化鎵(GaAs)晶圓代工廠聯穎合作,仍處于研發階段,初期將以6英寸晶圓代工服務為目標,未來也會考慮邁向8英寸代工。

聯穎是聯電持股81.58%子公司,為其新投資事業群的一員,提供6英寸砷化鎵晶圓代工服務,終端產品應用領域包括手機無線通訊、微波無線大型基地站、無線微型基地臺、物聯網、國防航太、光纖通信、光學雷達,及3D感測元件等。目前營運持續虧損,去年虧損新臺幣2.79億元,今年首季則虧損新臺幣861萬元。

目前包括臺積電、漢磊投控集團的晶圓代工廠漢磊科,6英寸GaN-on-Si晶圓代工制程均已量產;臺積電今年2月也宣布結盟意法半導體,意法將采用臺積電的GaN制程技術,生產氮化鎵產品,加速先進功率氮化鎵解決方案開發與上市,攜手搶攻電動車市場商機。

世界先進在GaN材料上已投資研發4年多,與設備材料廠Kyma、及轉投資GaN矽基板廠Qromis攜手合作,著眼開發可做到8英寸的新基底高功率氮化鎵技術GaN-on-QST,今年底前將送樣客戶做產品驗證,初期主要瞄準電源相關應用。

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