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國產(chǎn)22納米光刻機(jī)治不了咱們的“芯”病!

發(fā)布時(shí)間:2018-12-3 09:32    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 光刻 , 國產(chǎn)芯片
來源:科技日報(bào)

  11月29日,中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗(yàn)收。消息傳著傳著,就成了謠言——《國產(chǎn)光刻機(jī)偉大突破,國產(chǎn)芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術(shù)封鎖,彎道超車》《厲害了我的國,新式光刻機(jī)將打破“芯片荒”》……

  筆者正好去中科院光電所旁聽此次驗(yàn)收會(huì),寫了報(bào)道,還算熟悉,無法茍同一些漫無邊際的瞎扯。

  中科院研制的這種光刻機(jī)不能(像一些網(wǎng)媒說的)用來光刻CPU。它的意義是用便宜光源實(shí)現(xiàn)較高的分辨率,用于一些特殊制造場景,很經(jīng)濟(jì)。

  先解釋下:光刻機(jī)不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復(fù)的圖案,都可以用光刻——就像照相,圖像投在感光底片上,蝕掉一部分。半個(gè)多世紀(jì)前,美國人用這個(gè)原理“印刷”電路,從而有了大規(guī)模集成電路——芯片。

  為了節(jié)能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻機(jī)越做越極端。線條細(xì)到一定程度,投影就模糊了。要清晰投影,線條粗細(xì)不能低于光波長的一半。頂尖光刻機(jī)用波長13.5納米的極紫外光源,好刻10納米以下的線條。

  但穩(wěn)定的、大功率的極紫外光源很難造,一個(gè)得3000萬元人民幣。要求工作環(huán)境嚴(yán)苛,配合的光學(xué)和機(jī)械部件又極端精密,所以荷蘭的ASML公司獨(dú)家壟斷極紫外光刻機(jī),創(chuàng)造了“一臺賣一億美金”的神話。

  十幾年前,國際上開始對表面等離子體(surface plasma,SP)光刻法感興趣。中科院光電所從2003年開始研究,是較早出成果的一個(gè)團(tuán)隊(duì)。所謂SP,光電所的科學(xué)家楊勇向筆者解釋:拿一塊金屬片和非金屬片親密接觸,界面上有一些亂蹦的電子;光投影在金屬上,這些電子就有序地震蕩,產(chǎn)生波長幾十納米的電磁波,可用來光刻。

  但這種電磁波很弱,所以光刻膠得湊近了,才能刻出來。且加工精度與ASML的光刻機(jī)沒法比。刻幾十納米級的芯片是沒法用SP光刻機(jī)的,至少以現(xiàn)在的技術(shù)不能。


項(xiàng)目副總設(shè)計(jì)師胡松研究員介紹超分辨光刻裝備研制項(xiàng)目攻關(guān)情況(供圖:中科院科技攝影聯(lián)盟)

  驗(yàn)收會(huì)上也有記者問:該光刻設(shè)備能不能刻芯片,打破國外壟斷?光電所專家回答說,用于芯片需要攻克一系列技術(shù)難題,距離還很遙遠(yuǎn)。

  總之,中科院的22納米分辨率光刻機(jī)跟ASML壟斷的光刻機(jī)不是一回事,說前者彎道超車,就好像說中國出了個(gè)競走名將要超越博爾特。

  各家媒體第一時(shí)間報(bào)出的信息,就我看到的還算中規(guī)中矩。但后來網(wǎng)媒添枝加葉,搞到離譜。有些傳播者為吸引眼球、賺錢,最愛制造“自嗨文”和“嚇尿體”。聽到國產(chǎn)科技成就先往大里吹,驢吹成馬,馬吹成駱駝,好賣個(gè)駱駝價(jià)。

  這種“科技報(bào)道”是滿足虛榮心的偽新聞。行家聽了眉頭一緊,避之大吉。也難怪許多科學(xué)家怕上新聞。
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