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導(dǎo)入的單元，無論是宏單元、標(biāo)準(zhǔn)單元還是知識(shí)產(chǎn)權(quán)單元 (IP)，都是當(dāng)今集成電路 (IC) 設(shè)計(jì)中的常見元素。以往，當(dāng)設(shè)計(jì)人員將這些單元融入到設(shè)計(jì)中時(shí)，他們使用一種由單元庫交換格式 (LEF) 文件定義的抽象格式來導(dǎo)入它們。這一抽象視圖提供了有關(guān)單元的基本信息，例如布局布線 (P&R) 邊界、引腳接入點(diǎn)以及單元內(nèi)的繞線阻擋層形狀（blockage）。雖然此物理抽象視圖多年來對(duì)于許多節(jié)點(diǎn)來說一直是 ASIC 模型的基礎(chǔ)，但是在當(dāng)今最尖端的設(shè)計(jì)節(jié)點(diǎn)方面正面臨著嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。 在 P&R 過程中使用 LEF 文件能夠提供快速的驗(yàn)證檢查，不過需要以犧牲細(xì)節(jié)為代價(jià)。大多數(shù) P&R 工具使用一套簡(jiǎn)化的、引用 LEF 文件中簡(jiǎn)化數(shù)據(jù)的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 (DRC)，來自動(dòng)檢測(cè)和更正基本的 DRC 錯(cuò)誤。布局完成后，它便會(huì)被流化為圖形數(shù)據(jù)系統(tǒng) (GDS) 文件，然后會(huì)完成完整的簽核級(jí)別驗(yàn)證。此驗(yàn)證過程中，所導(dǎo)入單元抽象 LEF 視圖被全面詳細(xì)的 GDS 視圖所替代，且會(huì)高亮顯示未由簡(jiǎn)化的 DRC 集合捕獲的任何 DRC 錯(cuò)誤，以便進(jìn)行更正。當(dāng)規(guī)則相對(duì)簡(jiǎn)單且宏單元定義明確時(shí)，此過程會(huì)順利進(jìn)行。 新的設(shè)計(jì)規(guī)則需要使用被導(dǎo)入單元內(nèi)容的準(zhǔn)確而詳細(xì)的信息，這使單獨(dú)依賴 LEF 表示以在 P&R 過程中獲得準(zhǔn)確驗(yàn)證（如果有可能的話）變得極其困難。例如，用于控制單元中較深層級(jí)的多層規(guī)則和中線 (MOL) 層規(guī)則無法訪問 LEF 文件中的所需設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)。多模式（Multi-Pattern）需求會(huì)對(duì)可能會(huì)受布局和與其他單元距離影響的接入引腳施加顏色限制，而 LEF 文件中通常不會(huì)提供此信息。因此，需要采用一種新方法來提供有關(guān)單元內(nèi)容和周圍單元的更詳細(xì)信息，以確保驗(yàn)證不會(huì)變成一系列耗時(shí)的簽核級(jí)別 DRC 運(yùn)行和調(diào)試。 顯然，如果設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)嘗試在 P&R 過程中對(duì)整個(gè)設(shè)計(jì)使用 GDS 視圖，數(shù)據(jù)庫將很快變得非常龐大且很難進(jìn)行有效管理，從而會(huì)減慢流程。但是，有一種新技術(shù)有望解決此問題，那就是在工程變更指令 (ECO) 布線收斂過程中選擇性引入 GDS 視圖。通過訪問詳細(xì)的 GDS 視圖，以及受這些更復(fù)雜的新設(shè)計(jì)規(guī)則影響的特定單元格的簽核級(jí)別 DRC 引擎，ECO 布線收斂可確定并更正大多數(shù)重要的 DRC 問題，而不會(huì)顯著延長(zhǎng) P&R 所需的時(shí)間。 要保持 P&R 過程的理想效率和速度，ECO 收斂解決方案必須具有足夠的內(nèi)建智能算法來確定哪些單元需要 GDS 視圖，并分析簽核違反事項(xiàng)以確定適當(dāng)?shù)男拚胧�。使單元視圖選擇自動(dòng)化并對(duì)設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)透明，可確保從他們的角度來看此流程不會(huì)改變。 布線后完整的簽核級(jí)別 DRC 運(yùn)行仍可確保準(zhǔn)備好對(duì) GDS 文件進(jìn)行 DRC 清理、簽核，而不會(huì)顯著延遲驗(yàn)證進(jìn)度，從而確保設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)能夠預(yù)期完成市場(chǎng)目標(biāo)，并提供符合所有制造要求的設(shè)計(jì)。 |
