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標題: 工藝設計套件推進創新 [打印本頁]
作者: eba 時間: 2017-12-25 11:26
標題: 工藝設計套件推進創新
安森美半導體新的完整功能工藝設計套件，推進無源器件制造的小型化和創新。我們提供各種工具給設計人員，使他們開發出無線、便攜、和射頻器件應用的創新小巧解決方案。對于考慮采用集成無源器件 (IPD) 加速開發或避免使用大型表貼器件 (SMD) 的設計人員，如今利用適用于 National Instruments 應用波研究 (AWR) 環境的 PDK 套件可以輕松完成設計。
今年發布的 NIAWR PDK 套件支持我們先進的一流 IPD1 和 IPD2 工藝。此款PDK 套件配備完全可擴展的布局參數單元 (Pcell)、先進布局實用程序以及準確的電磁 (EM) 仿真功能。此套件可應客戶要求供下載。
不熟悉IPD 設計？我們提供了設計示例和教程，逐步指導采用我們極好的 IPD 工藝。我們確保減少設計人員的布局時間。我們的符號和原理圖均兼容 Cadence。利用預定義的基板定義和預配置的設置，您可輕松愉快地完成 EM 仿真。
隨著行業尋求更加小型的無線產品和高性能，我們的 IPD1 和 IPD2 工藝將更進一步發展和獲得更廣泛應用。這種增長已帶動對 NIAWR 設計環境下 IPD PDK 的需求。我們的共同客戶可利用此新的PDK 縮短開發周期，并加快部署創新的產品。
欲了解更多詳細信息，請參考鏈接：http://www.onsemi.cn/PowerSolutions/content.do?id=16699
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